Univ.-Prof. Dr. rer. nat. Thomas Riedl

Herr Dr.-Ing. Lukas Hoffmann

Herr Dr.-Ing. Lukas Hoffmann

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3M Deutschland GmbH, Carl-Schurz-Straße 1, 41460 Neuss


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Titel der Arbeit:

Spatial atomic layer deposition of electrically (non-)conductive gas diffusion barriers (2018)

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